[发明专利]图案曝光装置有效
申请号: | 201910225249.5 | 申请日: | 2015-04-27 |
公开(公告)号: | CN110095862B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 加藤正纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G02B26/12;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;王娟娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种图案描绘装置,通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案,具备:光源装置(14),其射出上述激光;多个描绘单元(U1~U6),其用于入射上述激光来生成上述扫描点,包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统,并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描;和多个选择用光学元件(50、58、66),其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换,而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。 | ||
搜索关键词: | 图案 曝光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种图案曝光装置,从沿着与第1方向正交的第2方向配置的多个描绘单元的每一个描绘单元将光束投射到基板上,其中所述第1方向是被图案曝光的所述基板移动的方向,所述光束与所述图案的描绘数据相应地被强度调制,所述图案曝光装置的特征在于,具备:描绘头支承部,其分为以在第1曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的奇数号的多个描绘单元、和以在第2曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的偶数号的多个描绘单元的状态支承所述多个描绘单元的每一个描绘单元,其中所述第1曝光位置在所述基板的移动方向上设定在上游侧,所述第2曝光位置在所述基板的移动方向上设定在距所述第1曝光位置规定间隔的下游侧;第1光源装置,其用于对所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;第2光源装置,其用于对所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;光束切换部,其包括与所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第1顺序分时地将来自所述第1光源装置的所述光束供给到所述奇数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件、和与所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第2顺序分时地将来自所述第2光源装置的所述光束供给到所述偶数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件;以及第1描绘用光调制器,其按所述第1顺序输入要在所述奇数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第1光源装置的所述光束进行强度调制;以及第2描绘用光调制器,其按所述第2顺序输入要在所述偶数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第2光源装置的所述光束进行强度调制。
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