[发明专利]高分子电解质膜在审
| 申请号： | 201910535377.X | 申请日： | 2014-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN110233277A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 井上祐一;宫崎久远;菊池健太朗;浦冈伸树;茶圆伸一;小西智久;伊野忠 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社;大金工业株式会社 |
| 主分类号： | H01M8/1025 | 分类号： | H01M8/1025;H01M8/1039;H01M8/1044;B01D69/02;B01D71/32;B01D71/82;C08J5/22;H01B1/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种高分子电解质膜，其具有优异的强度，尺寸变化小，膜电阻小。一种高分子电解质膜，其为在多孔质膜的空隙中含有高分子电解质而成的高分子电解质膜，其特征在于，所述多孔质膜是对聚四氟乙烯进行拉伸而得到的，该聚四氟乙烯是通过将四氟乙烯和烯键式共聚单体进行共聚而得到的，并且所述多孔质膜的对于高分子电解质溶液的接触角小于50度，所述多孔质膜的平均孔径大于0.20μm，所述多孔质膜的膜厚度为1.0μm～4.0μm，所述聚四氟乙烯包含相对于全部单体单元为0.011摩尔％以上0.100摩尔％以下的来自烯键式共聚单体的聚合单元，所述高分子电解质为氟系高分子电解质。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔质膜 高分子电解质膜 聚四氟乙烯 烯键式共聚单体 高分子电解质 高分子电解质溶液 电解质 氟系高分子 尺寸变化 单体单元 聚合单元 平均孔径 四氟乙烯 接触角 膜电阻 共聚 拉伸 | ||
【主权项】：
1.一种高分子电解质膜，其为在多孔质膜的空隙中含有高分子电解质而成的高分子电解质膜，其特征在于，所述多孔质膜是对聚四氟乙烯进行拉伸而得到的，该聚四氟乙烯是通过将四氟乙烯和烯键式共聚单体进行共聚而得到的，并且所述多孔质膜的对于高分子电解质溶液的接触角小于50度，所述多孔质膜的平均孔径大于0.20μm，所述多孔质膜的膜厚度为1.0μm～4.0μm，所述聚四氟乙烯包含相对于全部单体单元为0.011摩尔％以上0.100摩尔％以下的来自烯键式共聚单体的聚合单元，所述高分子电解质为氟系高分子电解质。
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