[发明专利]加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法

摘要

本发明提供了一种加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法，加热机构包括：热平台本体、位于热平台本体上的垫圈及气体预热结构。其中，所述待蒸镀基片、所述垫圈、所述热平台本体叠置形成密封空间，且设置所述气体预热结构与所述密封空间相连通。通过在热平台本体上增设垫圈，使得待蒸镀基片、垫圈、热平台本体叠置形成密封空间，进一步向密封空间中引入预热气体，将气体热量传递给待蒸镀基片，可避免基片上各处温度不均一的问题，提高基片上成膜的均匀性。

主权项

1.一种加热机构，用于对待蒸镀基片进行加热，其特征在于，包括：热平台本体；垫圈，位于所述热平台本体上，其中，所述待蒸镀基片、所述垫圈、所述热平台本体叠置形成密封空间；以及气体预热结构，所述气体预热结构与所述密封空间相连通。