[发明专利]一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法有效

专利信息
申请号: 201911359367.1 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN110954565B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 魏大庆;邹永纯;杜青;郭舒;张宝友;来忠红 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/20008;G01N1/28
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳泉清
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。
搜索关键词: 一种 利用 聚焦 离子束 进行 切割 制备 非均质 材料 透射 样品 方法
【主权项】:
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