[发明专利]一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法有效
申请号: | 201911359367.1 | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN110954565B | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 魏大庆;邹永纯;杜青;郭舒;张宝友;来忠红 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20008;G01N1/28 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 聚焦 离子束 进行 切割 制备 非均质 材料 透射 样品 方法 | ||
【主权项】:
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