[发明专利]光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法在审

专利信息
申请号: 201911380295.9 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN113050363A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 陈权 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法,光学邻近修正模型的建立方法包括:提供晶圆版图图形和初始测试图形;获取晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息;比较晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息,并判断初始测试图形的光强参数信息是否涵盖晶圆版图图形的光强参数信息,当涵盖时,将初始测试图形作为测试图形,当未涵盖时,将初始测试图形所缺失的光强参数信息对应的图形作为新增图形,并将新增图形添加至初始测试图形中以获得测试图形;根据测试图形,建立与晶圆版图图形相对应的光学邻近修正模型。本发明所述光学邻近修正模型中的测试图形能够更好地表征晶圆版图图形,从而提高了光学邻近修正的精准度。
搜索关键词: 光学 邻近 修正 模型 建立 方法 以及
【主权项】:
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