[实用新型]一种能增强开断能力的真空灭弧室纵磁触头结构有效

专利信息
申请号: 201921956974.1 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN210467691U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 张毅;陈志会;欧阳广龙;顾斌 申请(专利权)人: 中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 韩炜
地址: 550018 贵州省*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 实用新型公开了一种能增强开断能力的真空灭弧室纵磁触头结构。包括触头杯(1),触头杯(1)开口端连接有触头片(2);触头杯(1)杯壁上沿周向分布有斜槽(3),斜槽(3)贯通开口端在开口端端面上形成槽口(4),槽口(4)与触头杯(1)的内杯壁(5)相切,触头杯(1)杯壁上相邻两斜槽(3)间切割得到的部分构成线圈(8);所述的触头片(2)边缘沿周向分布有纵磁槽(6),纵磁槽(6)能够与所述槽口(4)轴向对齐,纵磁槽(6)一端贯通触头片(2)边缘。本实用新型能够在保持短路电流开断能力不变的情况下,实现低电阻目的,同时有利于小型化设计。
搜索关键词: 一种 增强 能力 真空 灭弧室纵磁触头 结构
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