[发明专利]磁装置有效
| 申请号： | 201980001174.0 | 申请日： | 2019-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN110612582B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 林相镐;金时年 | 申请（专利权）人： | 高丽大学校产学协力团 |
| 主分类号： | H01F10/32 | 分类号： | H01F10/32;H01F10/12;G01R33/09;B82Y25/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 韩国首尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁装置，包含：钉扎层，具有平面内磁化方向；自由层，具有平面内磁化方向，与钉扎层竖直间隔开以与钉扎层对准；导电间隔物层，安置在钉扎层与自由层之间；反铁磁层，安置以固定钉扎层的磁化方向且与钉扎层竖直间隔开以与钉扎层对准；以及贵金属间隔物层，安置在钉扎层与反铁磁层之间。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁装置，包括：/n钉扎层，具有平面内磁化方向；/n自由层，具有平面内磁化方向，所述自由层与所述钉扎层竖直间隔开以与所述钉扎层对准；/n导电间隔物层，安置在所述钉扎层与所述自由层之间；/n反铁磁层，安置以钉扎所述钉扎层的所述磁化方向且与所述钉扎层竖直间隔开以与所述钉扎层对准；以及/n贵金属间隔物层，安置在所述钉扎层与所述反铁磁层之间。/n
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