[发明专利]防护膜组件用支撑框及其制造方法、防护膜组件及曝光原版和曝光装置有效

申请号：	201980031898.X	申请日：	2019-06-12
公开（公告）号：	CN112154376B	公开（公告）日：	2023-08-18
发明（设计）人：	石川彰;大久保敦;小野阳介;高村一夫	申请（专利权）人：	三井化学株式会社
主分类号：	G03F1/64	分类号：	G03F1/64;H01L21/673
代理公司：	北京银龙知识产权代理有限公司 11243	代理人：	金成哲;宋春华
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
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摘要：	提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置，该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器，并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。
搜索关键词：	防护组件支撑及其制造方法曝光原版装置
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申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F1/64
摘要：提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置，该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器，并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。

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申请日： 2021-08-03 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护膜组件(10)，其包含防护膜(12)和支撑防护膜的支撑框(14)，防护膜(12)包含碳含有率为40质量％以上的碳系膜，防护膜与支撑框接触，满足下述条件1和条件2中的至少一者。〔条件1〕支撑框的与防护膜接触的面的粗糙度Ra为1.0μm以下。〔条件2〕支撑框的位于与防护膜接触的一面侧且位于防护膜组件的内部侧的边缘部中的凹凸的宽度为10μm以下。

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摘要：本发明提供一种防护薄膜框架1，其为框状的防护薄膜框架1，其特征在于包括防护薄膜框架本体1a、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层1b；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架1、及经由粘着剂或接着剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面13的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法及液晶显示板的制造方法。所述防护薄膜框架减少附着于其表面的异物落下。

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申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护薄膜框架(1)，其为具有设置防护薄膜膜片的上端面(13)及面向光掩模的下端面(14)的框状的防护薄膜框架(1)，其中，所述防护薄膜框架(1)为金属制，并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面(13)或下端面(14)的切口部(20)，每1mm3体积的防护薄膜的内空间中，内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上，且提供一种防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法及液晶显示板的制造方法。本发明可提供一种防护薄膜框架，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。

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申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护薄膜框架，其为EUV曝光用的防护薄膜框架，其特征在于在所述防护薄膜框架至少设置一个通气部，且在所述通气部内安装具有被树脂被覆的多孔质膜的过滤器；提供一种防护薄膜，其特征在于在所述防护薄膜框架张设防护薄膜膜片；提供一种带防护薄膜的曝光原版，其为EUV曝光用的带防护薄膜的曝光原版，其特征在于在曝光原版装设有所述防护薄膜；且提供一种半导体的制造方法、液晶显示板的制造方法及曝光方法。本发明的防护薄膜框架在EUV曝光中对氢自由基充分具有耐性。

用于极紫外光刻的表膜框架-202180030677.8
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摘要：一种表膜框架(17)，包括：第一部分(40)；和多个第二部分(42)。所述第一部分用于连接至表膜(19)的边界(19a)。所述第一部分包括中空且大致矩形的本体。所述多个第二部分用于连接至图案形成装置(MA)。所述第一部分和所述多个第二部分都由第一材料形成。所述第二部分中的每个由弹簧部分(44)连接至所述第一部分，所述弹簧部分由所述第一材料形成。这样的表膜框架是有利的，这是由于所述第一部分、所述多个第二部分和所述弹簧部分都由相同材料形成。这种情形显著简化了所述表膜框架的制造。例如，所述表膜框架的所有部分可以一起被一体地形成。

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申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体装置或液晶显示板的制造方法，所述防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，其特征在于：在所述防护薄膜框架的内侧面具有粗糙度曲线的峭度(Rku)为3.0以下的区域。本发明可提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件。

防护薄膜框架、防护薄膜组件、防护薄膜组件的检查方法、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示板的制造方法-202180008407.7
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申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件、防护薄膜组件的检查方法、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示板的制造方法，所述防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面(13)以及面向光掩模的下端面(14)的框状的防护薄膜框架(1)，且所述防护薄膜框架(1)的至少内侧面(11)处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下。本发明可提供一种防护薄膜框架、使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件及所述防护薄膜组件的检查方法，所述防护薄膜框架通过降低防护薄膜框架内表面(11)对于检查光的反射率，而可尽可能地抑制来自所述框架的散射光，提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而防护薄膜框架的着色等的限制少。

防护薄膜框架、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示器的制造方法-202180008413.2
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申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示器的制造方法，所述防护薄膜框架为构成光刻用的防护薄膜的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架的外周侧面形成为流线形状，且形成为所述流线形状的外周部分的宽度为防护薄膜框架的高度的50％以上。本发明通过将防护薄膜框架的外周侧面部设为特定的流线型的形状，而空气的剥离变小，可减小空气阻力，并且，结果可抑制高速扫描运动中的乱流，可抑制曝光后的覆盖的恶化。

防护膜框架和防护膜组件-201780042244.8
发明人：田口喜弘;高村一夫;种市大树 -专利权人：日本轻金属株式会社;三井化学株式会社
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供：一种能够有效地抑制因贴附防护膜组件(1)而引起的曝光原版(8)的变形、且不具有复杂形状的防护膜框架(2)；使用该防护膜框架的防护膜组件；以及，能够降低在聚光灯下表面晃眼的缺陷、且为了容易地进行使用前的异物附着检查等而黑色化的防护膜框架的制造方法。一种防护膜框架，其特征在于：在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜，该铝合金制框架由铝合金构成，该铝合金含有5.0～10.0质量％的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质，该铝合金中作为分散相的Al4Ca相的面积(体积)率为25％以上，该Al4Ca相的一部分的晶体结构是单斜晶，并且，分散于阳极氧化膜的Al4Ca相被阳极氧化，阳极氧化膜被黑色染料染色。

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申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供：一种能够有效抑制因贴附防护膜组件(1)而引起的曝光原版(8)的变形、且不具有复杂形状的防护膜框架(2)；和使用了该防护膜框架的防护膜组件。一种防护膜框架，其特征在于：在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜，该铝合金制框架由铝合金构成，该铝合金含有5.0～10.0质量％的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质，该铝合金中作为分散相的Al4Ca相的面积(体积)率为25％以上，Al4Ca相的一部分的晶体结构是单斜晶，并且，阳极氧化膜具有Al4Ca颗粒。

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发明人：高村一夫;种市大树;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;大久保敦;佐藤泰之;广田俊明 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2015-09-17 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。

形成CNT-BNNT纳米复合护膜的方法-202080015893.0
发明人：苏克蒂·查特吉;尤里·梅尔尼克;普拉文·K·纳万克尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本公开内容的多个实施方式一般涉及用于远紫外光刻系统的纳米复合护膜。护膜包括排列成平面片的多个碳纳米管，多个碳纳米管由多个金属催化剂点滴形成。以氮化硼的第一共形层涂布多个碳纳米管。此护膜可包括随着氮化硼的第一共形层同时形成的多个氮化硼纳米管。此护膜可包括设置在氮化硼的第一共形层上的碳纳米管涂层和设置在碳纳米管涂层上氮化硼的第二共形层或氮化硼纳米管。此护膜是UV透明且在氢自由基环境中是非反应性的。

防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法-201680047788.9
发明人：高村一夫;河关孝志;种市大树;前川真太朗;小野阳介;美谷岛恒明 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2016-08-15 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明的目的在于提供一种即便照射准分子光等短波长光也难以劣化，进而难以产生逸气或异物的防护膜组件框、使用其的防护膜组件。为了实现上述目的，设为如下的防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括框架和形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。

平板显示器用防护膜框架及其制造方法-201980055664.9
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申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种通过控制外观颜色而使曝光光线的散射防止和使用前的异物无附着检査等能够容易地进行的FPD用防护膜框架及其有效的制造方法。本发明的FPD用防护膜框架由具有透明氧化覆膜的不锈钢材料构成，透明氧化覆膜的膜厚为420nm～700nm。利用透明氧化覆膜的表面和不锈钢材料的表面所产生的反射光的干涉色，优选明度指数L*值为33以下。

表皮用支承框-201680026254.8
发明人：飯塚章;中野耕一;清见勇人;織田和宏;磯部智洋 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2016-03-02 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G03F1/64
摘要：一种表皮用支承框(1)，具有铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面供表皮覆膜(2)粘接，在框体(10)的背面供透明基板(M)粘接，框体(10)的材料的杨氏模量比透明基板(M)的材料的杨氏模量大。根据上述结构，能抑制透明基板(M)的变形。

表皮用支承框及制造方法-201580058273.4
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申请日： 2015-09-09 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F1/64
摘要：表皮用支承框(1A)包括铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜，在框体(10)的背面粘接有透明基板。在框体(10)的内部沿框体(10)的周向排列设置有多个中空部(51～53)，在相邻的两个中空部(51～53)之间形成有从框体(10)的外周面(10c)直至内周面(10d)的通孔(20)。在上述结构中，能防止在将支承框(1A)粘接到透明基板之后，在支承框(1A)及透明基板上发生翘曲的情况。

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发明人：小野阳介;高村一夫;大久保敦;种市大树;石川比佐子;美谷岛恒明 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2019-03-01 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。

防护件用支撑框、防护件及其制造方法以及使用这些的露光底版、半导体装置制造方法-201980022551.9
发明人：石川彰;大久保敦;小野阳介;高村一夫 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。

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发明人：饭塚章;中野耕一;古村直人;谷津仓政仁;冈畠勇斗 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种即使降低了框的截面面积也能够维持大型的FPD(平板显示器)用防护膜组件所要求的刚性，且能够通过该截面面积的降低而扩大框架的内部尺寸，并且具有高的尺寸精度和平坦度的FPD(平板显示器)用防护膜框架及其有效的制造方法。本发明提供一种FPD(平板显示器)用防护膜框架，其特征在于，由组成为Si：20～40质量％、Mg：0.2～1.2质量％、Cu：2质量％以下、Fe：2质量％以下、Cr：0.4质量％以下，且剩余部分为Al和不可避免的杂质的铝合金粉末烧结体的挤压件构成。

表皮用支承框-201580072967.3
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申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： G03F1/64
摘要：在铝合金制的框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜(2)，在框体(10)的背面(10b)粘接有透明基板(M)的表皮(P)用支承框(1)。在框体(10)的背面(10b)形成有沿框体(10)的周向延伸的凹槽(20)，并且形成有从框体(10)的外周面(10c)直至凹槽(20)的内表面的通气孔(30)。在这样的结构中，当将支承框(1)从透明基板(M)拆卸时，能抑制支承框(1)的变形。

用于EUV光刻的防护薄膜组件-201580020112.6
发明人：安镇浩;李宰旭;洪成哲;李勝旻;李吉馥;金正植;金廷桓 -专利权人：汉阳大学校产学协力团
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G03F1/64
摘要：提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件。所述用于EUV光刻的防护薄膜组件包括形成在第一无机层上的第一结合层和具有碳纳米结构的强度增强层，其中，第一结合层增强第一无机层与强度增强层之间的结合力，通过包括具有碳纳米结构的强度增强层来提高防护薄膜组件膜的强度。此外，根据另一示例，提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件和一种用于制造所述防护薄膜组件的方法。用于EUV光刻的防护薄膜组件是包括多个孔且由消光系数为0.02或更小的材料制成的多孔薄膜，其中，所述孔具有1μm或更小的直径。因此，防护薄膜组件可以被制造成具有高的EUV透射率且厚，从而确保改善的强度。

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发明人：高村一夫;小野阳介;種市大树;佐藤泰之;廣田俊明;古贺圣和 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： G03F1/64
摘要：一种表皮用的支承框(1A)，具有铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜，在框体(10)的背面粘接有玻璃基板。在框体(10)的表面(10a)形成有正面侧的凹槽(31～33)，所述正面侧的凹槽(31～33)沿着框体(10)的周向延伸，并且形成有正面侧的抽吸孔(50)，所述正面侧的抽吸孔(50)从框体(10)的外周面(10c)直至正面侧的凹槽(31～33)的内表面。在所述结构中，能够在不将其它部件按压到表皮覆膜的情况下，将表皮覆膜粘接于框体(10)。

表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法-201380015496.3
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摘要：具备利用一对长边部(10a)和一对短边部(10b)形成为大致矩形的框状的表膜构件框体(10)和铺展支承在该表膜构件框体(10)上的表膜(11)，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，长边部(10a)和短边部(10b)中的至少一边部向表膜构件框体(10)的外侧鼓出。而且，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体(10)的内侧发生了弹性变形的状态下，表膜(11)粘贴在表膜构件框体(10)上。

防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法-201880012953.6
发明人：高村一夫;小野阳介;大久保敦;种市大树;石川比佐子;美谷岛恒明 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供EUV透射性高、释气少、污染少的EUV用防护膜组件及其制造方法。防护膜组件(100)的特征在于，具有防护膜(101)、支撑框(103)以及第1粘接层(109)，所述第1粘接层(109)设置于支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在第1粘接层的沿与防护膜面交叉的方向且处于吊挂防护膜一侧的侧面具有无机物层(111)，上述无机物层的质量吸收系数(μ_m)为5×10³cm²/g～2×10⁵cm²/g的范围。

薄膜用支承框和薄膜及其制造方法-201780057884.6
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申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种薄膜用支承框(1)及使用有该薄膜用支承框的薄膜(8)以及其有效的制造方法，所述薄膜用支承框兼备低扬尘性和高耐光性，并且即使将短波长激光用于曝光光源的情况下，也至不生成烟雾的程度将离子洗脱量降低至极限。本发明涉及一种薄膜用支承框，其特征在于，具有：由铝或铝合金构成的框架材料(2)、形成于该框架材料的表面的阳极氧化皮膜(4)、和形成于该阳极氧化皮膜的表面的氟树脂涂层(6)。

薄膜用支承框和薄膜及其制造方法-201780057899.2
发明人：山口隆幸 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供一种薄膜用支承框及使用该薄膜用支承框的薄膜以及其有效的制造方法，所述薄膜用支承框兼具低扬尘性和高耐光性，并且即使将短波长激光用于曝光光源的情况下，也至不生成烟雾的程度将离子洗脱量降低至极限。一种薄膜用支承框，其特征在于，具有由铝或铝合金构成的框架材料、和形成于该框架材料的表面的无机系涂层，该无机系涂层的主链由‑Si‑O‑Si‑O‑键构成。优选在框架框和无机系涂层之间形成阳极氧化皮膜。

防护膜组件-201380037728.5
发明人：近藤正浩;津本高政 -专利权人：三井化学株式会社
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明的目的在于提供一种防护膜组件，其于防护膜框架的内侧面具有粘着层，该粘着层具有可使尘埃等悬浮物良好地粘固的保持性能、及对短波长光的优异耐光性。本发明的防护膜组件包括：防护膜框架、铺设于上述防护膜框架上的防护膜、及设置于上述防护膜框架的内侧的粘着层，上述粘着层包含相对于上述粘着层为60质量％以上的共聚物，所述共聚物具有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元。‑CH₂CF₂‑ …(1)‑CF₂CF(CF₃)‑ …(2)

隔膜组件-201680081619.7
发明人：德克·S·G·布龙;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;玛丽亚·皮特;威廉·琼·范德赞德;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯;W-P·福尔蒂森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： G03F1/64
摘要：一种用于EUV光刻术的隔膜组件(80)，所述隔膜组件包括：平面的隔膜(40)；边框(81)，配置成保持隔膜；和框架组件(50)，连接到边框并且被配置成附接到用于EUV光刻术的图案形成装置(MA)；其中框架组件在垂直于隔膜的平面的方向上连接到边框，使得在使用中框架组件位于边框和图案形成装置之间。

防尘薄膜用支承框的制造方法、防尘薄膜用支承框及防尘薄膜-201380037999.0
发明人：山口隆幸;田口喜弘;饭塚章 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2013-07-11 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： G03F1/64
摘要：本发明提供可通过阳极氧化处理形成充分黑色化的阳极氧化被膜，能在工业上低成本且简便地获得防尘薄膜用支承框的方法、通过该方法得到的防尘薄膜用支承框及防尘薄膜。防尘薄膜用支承框的制造方法以及通过该方法得到的防尘薄膜用支承框及具备光学薄膜体的防尘薄膜，所述方法是具备光学薄膜体用作防尘薄膜的防尘薄膜用支承框的制造方法，其特征在于，对由Al‑Zn‑Mg系铝合金形成的铝材进行退火后，在碱性浴中进行阳极氧化处理，形成明度指数L*值在40以下的阳极氧化被膜。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]防护膜组件用支撑框及其制造方法、防护膜组件及曝光原版和曝光装置有效

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