[发明专利]用于形成光栅的方法有效
| 申请号： | 201980081016.0 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN113168020B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·C·奥尔森;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;摩根·埃文斯;傅晋欣 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G02B27/01;G02B30/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 光栅 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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