[发明专利]光学薄膜的检查方法以及光学薄膜的制造方法在审
申请号: | 202010405278.2 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN111948176A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 川上武志;尾崎麻耶;曾我部里惠 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;G02B5/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 齐秀凤 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的一实施方式所涉及的光学薄膜的检查方法具备:检测工序,向具有第1相位差层、第2相位差层和配置在第1相位差层以及第2相位差层之间的第1粘接层的光学薄膜(10)的检查面(10a),从在检查面侧配置的光源部(21)照射检查光(L1),并通过在检查面侧配置的检测部(22)对从光源部照射并由光学薄膜反射出的光进行检测;以及判定工序,根据通过检测部检测出的光的亮度,取得沿着光学薄膜中的剖面的亮度分布,并根据亮度分布来判定光学薄膜是否为合格品。 | ||
搜索关键词: | 光学薄膜 检查 方法 以及 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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