[发明专利]一种光学电流传感器优化设计方法有效
| 申请号： | 202010566275.7 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111753450B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 章江铭;姚力;倪琳娜;沈曙明 | 申请（专利权）人： | 国网浙江省电力有限公司营销服务中心 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 吴思高 |
| 地址： | 311121 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种光学电流传感器优化设计方法，建立理论模型，分析磁场在磁光玻璃上的分布均匀性；对不同结构的光学电流传感器的磁场分布进行仿真；对铁芯的长度、宽度和半径变化引起的光学电流传感器磁场分布进行比较；调节磁光玻璃几何参数，观察对光学电流传感器的磁场分布的影响；调节线圈结构的几何参数，观察对光学电流传感器的磁场分布的影响；选择合适的铁芯长度、宽度和半径，通过磁光玻璃和线圈结构的几何参数相互影响来确定适合的参数，对光学电流传感器进行优化设计。本发明方法通过对比光学电流传感器磁场分布来设计光学电流传感器精确度、并同时实现小型化，具备简单、准确、高效的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 电流传感器 优化 设计 方法 | ||
【主权项】：
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