[发明专利]一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法在审
| 申请号： | 202010745195.8 | 申请日： | 2020-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN111807703A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 徐晓虹;陈元彪;吴建锋;刘星;邹腊年 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学;绍兴市上虞区理工高等研究院 |
| 主分类号： | C03C8/16 | 分类号： | C03C8/16;C04B41/86 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 吴艳姣 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸钠0.2～0.4wt％、氧化铬0.1～0.3wt％；所述烧成温度为1080～1120℃，烧成气氛为空气气氛。本发明制备的青瓷釉料能耗低。与传统的青瓷釉料采用多种矿物原料相比，本发明的青瓷釉在1080～1120℃下即可烧成，可降低青瓷釉烧成过程中的能耗；青瓷釉料在氧化焰气氛下烧成，烧成制度稳定可控，操作简单，而且得到的釉料呈色稳定，易于生产控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 气氛 低温 制备 青瓷 釉料 方法 | ||
【主权项】：
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