[发明专利]一种移位饱和同步处理的方法及其应用有效

专利信息
申请号: 202011084127.8 申请日: 2020-10-12
公开(公告)号: CN112181354B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 黄鹏;丁晓兵;朱少华;冯潮斌 申请(专利权)人: 上海芯旺微电子技术有限公司
主分类号: G06F5/01 分类号: G06F5/01;G06F9/30
代理公司: 上海唯智赢专利代理事务所(普通合伙) 31293 代理人: 刘朵朵
地址: 200120 上海市浦东新区龙东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种移位饱和同步处理的方法及其应用,步骤如下:产生移位MASK,移位后溢出位的选择信号产生,将移位溢出对应的位标记为1,其他位置标记为0;使用选择信号选择待移位的数据,如选择信号中某一位的MASK为1,则选取待移位的数据中的对应结果,反之则输出待移位数据的最高位;检测以上所得所有结果和待移位的数据的最高位,如待移位的数据的最高位为0时以上所得所有结果全为0,或者待移位的数据的最高位为1时以上所得所有结果全为1,则移位无溢出,反之则移位溢出。本发明的方法,逻辑清晰,步序简单,实现了移位与饱和判断的同步进行,提高了移位运行效率,极具应用前景。
搜索关键词: 一种 移位 饱和 同步 处理 方法 及其 应用
【主权项】:
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