[实用新型]一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备有效

专利信息
申请号: 202020662792.X 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212189712U 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 王静 申请(专利权)人: 深圳市山禾乐科技开发有限公司
主分类号: B05B13/02 分类号: B05B13/02;B05D3/04
代理公司: 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 代理人: 张朝阳;袁浩华
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备,包括密封板和气缸,所述密封板底部与壳体固定连接,且壳体底部安装有底箱,同时壳体内部安装有固定支架,并且固定支架内部固定连接有插块,插块上安装有基板,固定支架上侧安装有横板,且固定支架右下侧与万向轮固定连接,同时固定支架底部与轴杆固定连接,并且轴杆端部通过轴承穿过动力箱与转动齿轮固定连接,真空管的上端设置在壳体内部,且真空管的下端部与底箱内部的真空装置固定连接;所述气缸的伸缩杆与动力箱固定连接。该高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备,基板设置为12组环形设置在固定支架上,一次可完成12组基板的镀膜作业,装置镀膜工作效率高。
搜索关键词: 一种 气密性 派瑞林 真空 纳米 镀膜 设备
【主权项】:
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