[实用新型]偶联剂蒸发装置及气相沉积系统有效
申请号: | 202020935295.2 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN212834021U | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 张建飞;宋文庆;王凯;吴兴华 | 申请(专利权)人: | 立讯电子科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/448 |
代理公司: | 北京睿派知识产权代理事务所(普通合伙) 11597 | 代理人: | 刘锋 |
地址: | 215324 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统,涉及气相沉积技术领域,用于对工件进行气相沉积操作。其中,偶联剂蒸发装置包括:多个偶联剂容纳部;支撑部,具有至少一个定位件,多个所述偶联剂容纳部等间距设置于所述支撑部的一侧,所述支撑部通过所述定位件固定在沉积室内壁上。本实用新型公开实施例通过在沉积室内壁上等间距设置多个用于蒸发偶联剂的偶联剂容纳部,可有效改善化学气相沉积过程中工件表面沉积的偶联剂的均匀度,进而提高气相沉积后的工件的质量。 | ||
搜索关键词: | 偶联剂 蒸发 装置 沉积 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的