[实用新型]一种化学气相沉积设备晶圆举起箍组件有效
申请号: | 202022652618.X | 申请日: | 2020-11-17 |
公开(公告)号: | CN212152436U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 叶新浩;黄中山;林保璋;王虎斌 | 申请(专利权)人: | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 谢绪宁 |
地址: | 315100 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请涉及一种化学气相沉积设备晶圆举起箍组件,其包括升降环和带动升降环位移的升降件,升降环远离升降件的一侧推动有装载环,装载环远离升降环的一侧可拆卸连接有多个提升销;多个提升销远离装载环的一端贯穿有位置固定的加热器,加热器限定提升销的路径;提升销的端部贯穿装载环并与装载环螺纹连接,装载环与升降环之间设置有阻止提升销端部与装载环接触的让位部。本申请具有延缓螺丝松动时间的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 举起 组件 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的