[实用新型]一种真空镀膜用非接触式的公自转转架系统有效
| 申请号： | 202022872452.2 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN213895988U | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 靳伟;余海春;戴秀海;高心愿 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空镀膜用非接触式的公自转转架系统，包括动力输入装置、磁流体、静止磁齿盘以及传动磁齿轮系，其中动力输入装置设置在真空成膜室的大气侧并与磁流体相连接，磁流体设置在转架的中心位置以驱动转架公转；静止磁齿盘固定在真空成膜室的底板上，其与传动磁齿轮系的动力输入端通过磁性作用构成非接触式啮合，传动磁齿轮系的动力输出端与基片串相传动配合以驱动基片串在转架上自转。本实用新型的优点是：1）可以实现在齿轮非接触的情况下实现转架的公自转功能，齿轮没有磨耗，转动精度高，有效保证成膜质量；2）可以很方便的调节各磁齿轮内部磁极的数量来改变公自转的转动比；不会对镀片和膜层造成污染，提高镀片的成膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 接触 转转 系统 | ||
【主权项】：
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