[发明专利]表面缺陷检测方法、装置、设备及存储介质有效
| 申请号： | 202110047151.2 | 申请日： | 2021-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN112883601B | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 董立超;赵东峰;艾立夫;刘艺;朱春霖;刘宝山;彭旭 | 申请（专利权）人： | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23;G06F30/27;G06T7/00;G06V10/74;G06V10/774;G06V10/82;G06N3/0464;G06N3/08;G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 梁馨怡 |
| 地址： | 261031 山东省潍*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学检测技术领域，公开了一种表面缺陷检测方法、装置、设备及存储介质，所述方法包括：获取待测元件表面的预设缺陷区域的散射光空间分布数据，并基于所述散射光空间分布数据确定所述预设缺陷区域的缺陷形状，获取所述预设缺陷区域的散射光强值，并基于所述散射光强值确定所述缺陷形状对应的缺陷尺寸，基于所述缺陷形状和所述缺陷尺寸进行表面缺陷检测，以获得所述待测元件表面的缺陷结构信息，通过本发明所述的散射法检测中的非成像法对待测元件表面缺陷进行检测，避免了现有技术中通过超声检测和光学检测中的成像法进行表面缺陷检测时所带来的弊端，实现了对多种类型的待测元件的高精度、高效率的表面微纳级别缺陷检测。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 缺陷 检测 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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