[发明专利]一种利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法有效
| 申请号： | 202110210186.3 | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN113054534B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 浦仕遵;李宏梅;彭庆军;刘平林 | 申请（专利权）人： | 云南电网有限责任公司德宏供电局;云南电网有限责任公司电力科学研究院 |
| 主分类号： | H01T1/04 | 分类号： | H01T1/04 |
| 代理公司： | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人： | 金耀生 |
| 地址： | 678499 云南省德*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及过电压保护装置技术领域，具体涉及的是一种利用磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，可提升多腔室灭弧结构的性能。本发明中所提出这种磁场提升多腔室结构灭弧效率的方法，可在多腔室结构被击穿产生电弧时进一步加速结构内电弧等离子体的运动，缩短电弧喷出及熄灭时间，提升灭弧效率。本发明是在原有腔室结构内基础上设置非恒定磁场，磁场的磁感应强度为0.1~5T，磁场方向与灭弧腔室单元内电极间中轴线、腔室喷口中轴线相垂直。通过磁场，可在气动压力加速的基础上，使电弧等离子体受到朝喷口方向的洛伦兹力，加速电弧等离子体运动，缩短电弧喷出及熄灭时间，从而达到提升多腔室结构灭弧效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 磁场 提升 多腔室 结构 效率 方法 | ||
【主权项】：
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