[发明专利]涂层组合物及形成电子装置的方法在审
| 申请号： | 202110438835.5 | 申请日： | 2021-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN113589650A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘盛;J·F·卡梅伦;山田晋太郎;I-S·科;张可人;S·M·科莱;崔莉;P·J·拉博姆;王德岩 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/025 | 分类号： | G03F7/025;G03F7/004;G03F1/56;G03F1/76 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;乐洪咏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
涂层组合物包含：可固化化合物，所述可固化化合物包含：核；以及三个或更多个具有式(1)的取代基；聚合物；以及一种或多种溶剂，其中总溶剂含量是基于所述涂层组合物的50至99wt％。还提供了用所述涂层组合物形成的经涂覆的基底以及使用所述组合物形成电子装置的方法。所述组合物、经涂覆的基底及方法特别适用于制造半导体装置。 |
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| 搜索关键词： | 涂层 组合 形成 电子 装置 方法 | ||
【主权项】：
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