[发明专利]一种表面具有拓扑图案的金刚石薄膜及其制备方法和应用有效
申请号: | 202110647068.9 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN113388822B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 任富增;朱明余;李玉磊;王晓飞;赵予生 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511;C23C16/02;B23K26/362;A61L27/50;A61L27/30;A61L27/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种表面具有拓扑图案的金刚石薄膜及其制备方法和应用,所述制备方法包括如下步骤:(1)在基底上制备拓扑图案,得到具有拓扑图案的基底;所述拓扑图案的制备方法选自光刻结合电感耦合等离子体刻蚀法、湿法刻蚀法或激光直写法中的任意一种;(2)在步骤(1)得到的具有拓扑图案的基底上沉积金刚石薄膜,得到所述表面具有拓扑图案的金刚石薄膜。所述制备方法具有可大面积制备、高精度以及图案可控的优点,由所述制备方法得到的金刚石薄膜可应用于牙科植入材料、骨科植入材料或者生物探针中。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 具有 拓扑 图案 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的