[发明专利]一种束源炉的薄壁保温层结构在审

专利信息
申请号: 202111194806.5 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN113970243A 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 雷震霖;赵崇凌;张学锋;李重茂;毕永生;张学全;李治 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
主分类号: F27B14/08 分类号: F27B14/08;C30B23/02;C30B25/02
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于分子束源炉领域,具体地说是一种束源炉的薄壁保温层结构,包括侧保温层、上保温层、下保温层及若干个的支撑架,侧保温层包括由外至内依次套接的若干层表面设有鼓包的钽筒。侧保温层、上保温层及下保温层对所围成的内部空间进行保温,对坩埚形成悬挂式保温结构;通过各保温层与坩埚及束源炉加热器等整体的重量最终均由最外层的钽筒支撑,可使得热传导距离最大化;通过侧保温层的钽筒上鼓包的设置,可减少相邻钽筒间的接触面积,减少热传导。本发明可适用于在超高真空环境使用,采用设有鼓包的钽筒的侧保温层及整体的悬挂式保温层结构,可有效减少热传导,提高热辐射屏蔽效果,实现高效、均匀、稳定、节能的束源炉保温功能。
搜索关键词: 一种 束源炉 薄壁 保温 结构
【主权项】:
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