[发明专利]一种化学机械抛光用CeO2在审

专利信息
申请号: 202111511606.8 申请日: 2021-12-06
公开(公告)号: CN114032034A 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 许宁;马家辉;雒玉欣;刘琦;李灏辉 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C09K3/14
代理公司: 西安众和至成知识产权代理事务所(普通合伙) 61249 代理人: 强宏超
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种化学机械抛光用CeO2研磨颗粒的制备方法,包括以下步骤:步骤一、按照摩尔比1:(5~30)称取铈盐和熔盐,在坩埚中研细、混合、干燥;步骤二、将步骤一中经混合、干燥后的混合盐置入管式气氛炉中以1~5℃/min的升温速率升温至700~800℃焙烧,保温2~4h,保温结束后以1~5℃/min的速率降温至室温,将反应后的产物用去离子水清洗获得的沉淀即为CeO2纳米颗粒;将该方法制备的CeO2纳米颗粒配置成CeO2基化学机械抛光液适用于氧化硅制品的高效抛光中,该制备方法具有选用原料廉价、制备工艺简单、生产周期短的特点,同时所制备的CeO2颗粒具有抛光效率高的特点。
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 ceo base sub
【主权项】:
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