[实用新型]原子沉积镀膜设备

摘要

本实用新型公开一种原子沉积镀膜设备，包括镀膜真空腔室、与所述镀膜真空腔室连接的源进气装置、与所述镀膜真空腔室连接的抽气装置以及与所述镀膜真空腔室连接的喷淋进气组件；所述喷淋进气组件包括可拆卸安装于所述镀膜真空腔室上的壳体，设于所述壳体上侧的进气管，所述进气管一端连接气源、另一端延伸进入所述壳体内腔且其喷淋口朝向下设置，以向所述镀膜真空腔室内部吹扫。原子沉积镀膜设备设有喷淋进气组件可以使得源气体分散更均匀，可提高镀膜效率及良品率。