[发明专利]用于调整半导体处理室部件的方法在审

专利信息
申请号: 202180015850.7 申请日: 2021-02-16
公开(公告)号: CN115135812A 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 许临;大卫·约瑟夫·韦策尔;约翰·多尔蒂;石洪;萨蒂什·斯里尼瓦桑;宋元平;约翰尼·彭;宋艺伟;克里斯托弗·金博尔 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/08;C23C28/00;C23C16/44;C23C16/458;H01J37/32
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张华
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了在半导体处理室中使用的部件的制造方法。部件本体由导电材料形成,该导电材料的热膨胀系数低于10.0×10‑6/K。接着,在该部件本体的表面上方设置金属氧化物层。
搜索关键词: 用于 调整 半导体 处理 部件 方法
【主权项】:
暂无信息
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