[发明专利]层叠薄膜、第2层叠薄膜的制造方法和应变传感器的制造方法在审
申请号: | 202180072118.3 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN116438062A | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 西森才将;中岛一裕;梨木智刚;丹羽英二 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;韩平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 层叠薄膜沿厚度方向依次具备绝缘性的基材树脂薄膜和电阻层。电阻层包含氮化铬。电阻层的电阻温度系数为‑400ppm/℃以上且‑200ppm/℃以下。 | ||
搜索关键词: | 层叠 薄膜 制造 方法 应变 传感器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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