[发明专利]用于控制电子密度分布的方法和设备在审
| 申请号： | 202180086080.5 | 申请日： | 2021-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN116635972A | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | P·W·斯摩奥伦堡;O·J·卢伊滕;B·H·斯卡普;J·G·H·弗朗森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J31/00 | 分类号： | H01J31/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于控制由电子源提供的用于硬X射线、软X射线和/或极紫外线的产生的电子的密度分布的方法，所述方法包括：在空腔内使用离子化激光从超冷激发原子的图案产生多个电子，其中，所述电子具有由激发原子的所述图案和所述离子化激光中的至少一个确定的密度分布；和使用非静态加速度曲线将所述电子加速至所述空腔之外，其中，所述加速度曲线控制所述电子的在所述电子离开所述空腔时控制所述电子的所述密度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 电子密度 分布 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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