[发明专利]光伏装置及制造方法在审

专利信息
申请号: 202180092775.4 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN116830279A 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: D·曹;M·格洛克勒;S·格罗弗;J·哈克;李政昊;陆定原;A·瓦拉达拉詹;熊刚;赵志波 申请(专利权)人: 第一阳光公司
主分类号: H01L31/073 分类号: H01L31/073
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李进;杨思捷
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 通过如下获得具有p型接触层(180)的、具有II‑VI型半导体吸收剂材料(160)的光伏装置(100):在基材堆叠(113)上形成II‑VI吸收剂层,其中II型材料包括镉(Cd)并且VI型材料包括碲(Te);使包含氢氧化物的碱性洗涤流体与所述吸收剂层的第二表面接触以产生富Cd表面,在所述吸收剂层(160)上沉积p型接触层(180),由此所述p型接触层与富Cd层直接相邻,并且其中所述p型接触层包含以下中的至少一种:PTAA、P3HT、聚‑TPD、TFB、TTF‑1、TF8‑TAA、TIF8‑TAA、SGT‑407、PCDTBT、螺OMeTAD、蒽基HTM、聚噻吩、半导体聚合物、NiO、CuSCN或CuI;和在所述p型接触层上沉积导电层(190)。
搜索关键词: 装置 制造 方法
【主权项】:
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