[发明专利]一种基于脉冲搭桥的通孔填孔电镀工艺有效

专利信息
申请号: 202210515895.7 申请日: 2022-05-12
公开(公告)号: CN114836797B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 张之勇 申请(专利权)人: 广州市慧科高新材料科技有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D7/00;C25D5/02;C25D5/18;H05K3/42
代理公司: 广州帮专高智知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44674 代理人: 喻振兴
地址: 511466 广东省广州市南沙区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于脉冲搭桥的通孔填孔电镀工艺,解决现有技术中的填孔时间长且浪费铜材料等问题。该工艺,包括1)通过脉冲电镀搭桥工序在通孔中间位置电镀铜搭桥,形成双面盲孔;2)直流填孔电镀工序在双面盲孔中电镀铜将双面盲孔填平;其中,在脉冲段采用带相位移的脉冲波形实现通孔中的桥接,线路板两板面(A面和B面)的波形一致,但存在90%~180%的相位差,且搭桥波形均包含一个1‑6秒的直流段,在完成搭桥后,电镀模式切换为直流电镀模式完成后续的盲孔填孔。
搜索关键词: 一种 基于 脉冲 搭桥 通孔填孔 电镀 工艺
【主权项】:
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