[发明专利]一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法在审
| 申请号： | 202211412632.X | 申请日： | 2022-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN116043256A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 于锋;鲍文涛;卢可;杨金凤 | 申请（专利权）人： | 石河子大学 |
| 主分类号： | C25B11/073 | 分类号： | C25B11/073;C25B11/061;C25B11/031;C25B1/04 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 刘铁生;孟阿妮 |
| 地址： | 832003 新疆维*** | 国省代码： | 新疆;65 |
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| 摘要： | 本发明一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法。一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法，为：将泡沫镍超声清洗、真空干燥后，置于去离子水中进行等离子体处理，干燥后，得所述的羟基氧化物。本发明所述的一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法，在常温常压下，且无任何化学试剂添加的情况下，简单高效的制备，达到了绿色环保无污染的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溶液 等离子体 原位 合成 羟基 氧化物 制备 方法 | ||
【主权项】：
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