[发明专利]一种具有低粗糙度、高剥离强度的反转铜箔的生产工艺及其产品和应用有效

专利信息
申请号: 202211582691.1 申请日: 2022-12-09
公开(公告)号: CN116083972B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 罗辉;潘建锋;俞俊;葛啸鹏;蔡尚尚;王锦范 申请(专利权)人: 浙江花园新能源股份有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04;C25D5/24;C25D5/48;C25D3/38;H05K1/09
代理公司: 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 代理人: 朱朦琪
地址: 322121 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种具有低粗糙度、高剥离强度的反转铜箔的生产工艺,包括:(1)配制电解液,电解液中包括:硫酸铜、硫酸、纯水、氯离子和添加剂A;添加剂A包括麦芽糊精和胶原蛋白;(2)将电解液注入带有阴极辊的电镀槽中,经电解后得到生箔;(3)将生箔进行表面瘤化处理,包括粗化处理和固化处理,粗化处理液中包括:硫酸铜、硫酸、纯水和添加剂B;添加剂B包括香豆素和1,4‑丁炔二醇;(4)将经表面瘤化处理后的生箔进行后处理。本发明制备得到的产品兼具低表面粗糙度、低比表面积增量,以及高的抗剥离强度与高的抗拉强度;更能满足信号传输高频高速化对铜箔的要求,尤其适用于制备高频高速用电路材料,如PCB、CCL等。
搜索关键词: 一种 具有 粗糙 剥离 强度 反转 铜箔 生产工艺 及其 产品 应用
【主权项】:
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