[发明专利]新型化合物、抗蚀剂下层膜组合物以及抗蚀剂下层膜在审

专利信息
申请号: 202211699559.9 申请日: 2022-12-28
公开(公告)号: CN116425614A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 林瑛培;金炫辰;金钟元;金知贤;金甫龙;金建熙;赵恩情;李承默;张相勳 申请(专利权)人: 株式会社东进世美肯
主分类号: C07C39/17 分类号: C07C39/17;G03F7/11;C08G61/02
代理公司: 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 代理人: 宋东颖
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种耐蚀刻性、间隙填充特性以及耐热性得到改善的化合物。本发明的一实施例提供一种包含以下述结构式1表示的重复单元的化合物:[结构式1]
搜索关键词: 新型 化合物 抗蚀剂 下层 组合 以及
【主权项】:
暂无信息
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