[实用新型]一种等离子体发生装置及镀膜设备有效
| 申请号： | 202221007639.9 | 申请日： | 2022-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN217389077U | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 靳伟;何云鹏;戴秀海 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;C23C14/58;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 袁微微 |
| 地址： | 200436 上海市宝山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种等离子体发生装置及镀膜设备。该等离子体发生装置包括等离子体发生机构和磁约束组件。其中，等离子体发生机构用于产生等离子体，且等离子体发生机构包括用于容纳等离子体的壳体，磁约束组件沿垂直于等离子体的出口方向设置在壳体的外周，磁约束组件通过磁场调节等离子体中的带电粒子的运动，从而降低作用在基片上的等离子体的能量，进而有利于避免高温导致基片损坏，有利于保证镀膜效果和基片质量，进而提高基片的成品率。该镀膜设备，通过上述等离子体发生装置，有利于提高基片的镀膜质量，避免基片高温下受到损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 发生 装置 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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