[实用新型]辐射发生整形装置有效
申请号: | 202223571944.3 | 申请日: | 2022-12-31 |
公开(公告)号: | CN219286059U | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 陈栩涵;陈秋宏;奚昂涛;黄瑞铭 | 申请(专利权)人: | 佛山市纳西弗科技有限公司 |
主分类号: | G21K5/04 | 分类号: | G21K5/04;G21K5/08;G21K5/00 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 罗程凯 |
地址: | 528000 广东省佛山市南海区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 辐射源发生整形装置,涉及辐射源产生技术领域,其包括靶件屏蔽体,靶件屏蔽体中空形成有用于放置靶件的靶腔,靶腔后端设有辐射出口,前端设有靶腔入口,靶腔内设有真空管,所述真空管后端设有所述靶件,所述真空管为可伸缩的真空管,其包括用于安装所述靶件的靶段、可伸缩的伸缩段和被固定的固定段,固定段、伸缩段和靶段从前往后依次相连,伸缩段可伸缩以调节所述靶件在前后方向的位置。从而调整所述靶件与辐射出口的距离,从而在使用过程中就可以控制焦斑大小、辐射张角、通过最终输出的准直孔的辐射通量。 | ||
搜索关键词: | 辐射 发生 整形 装置 | ||
【主权项】:
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