[实用新型]辐射发生整形装置有效

专利信息
申请号: 202223571944.3 申请日: 2022-12-31
公开(公告)号: CN219286059U 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 陈栩涵;陈秋宏;奚昂涛;黄瑞铭 申请(专利权)人: 佛山市纳西弗科技有限公司
主分类号: G21K5/04 分类号: G21K5/04;G21K5/08;G21K5/00
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 罗程凯
地址: 528000 广东省佛山市南海区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 辐射源发生整形装置,涉及辐射源产生技术领域,其包括靶件屏蔽体,靶件屏蔽体中空形成有用于放置靶件的靶腔,靶腔后端设有辐射出口,前端设有靶腔入口,靶腔内设有真空管,所述真空管后端设有所述靶件,所述真空管为可伸缩的真空管,其包括用于安装所述靶件的靶段、可伸缩的伸缩段和被固定的固定段,固定段、伸缩段和靶段从前往后依次相连,伸缩段可伸缩以调节所述靶件在前后方向的位置。从而调整所述靶件与辐射出口的距离,从而在使用过程中就可以控制焦斑大小、辐射张角、通过最终输出的准直孔的辐射通量。
搜索关键词: 辐射 发生 整形 装置
【主权项】:
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