[发明专利]高压离子光学装置在审
| 申请号： | 202280015860.5 | 申请日： | 2022-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN116848402A | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | P·马里奥特;A·马卡洛夫;E·瓦佩尔郝斯特 | 申请（专利权）人： | 赛默电子制造有限公司;塞莫费雪科学（不来梅）有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/624 | 分类号： | G01N27/624 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 周全 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种离子光学装置，该离子光学装置包括：第一电极布置和第二电极布置，该第一电极布置和第二电极布置在空间上彼此分离，用于接收离子和气体并且被布置成在高气体压力环境中操作；以及RF电压源，该RF电压源：将具有一个或多个RF驱动频率的第一RF电压施加到第一电极布置；以及将该一个或多个RF驱动频率的具有不同相位的第二RF电压施加到第二电极布置，其中第一RF电压和第二RF电压具有非对称波形，将第一RF电压和第二RF电压分别施加到第一电极布置和第二电极布置使得所接收的离子经历电场；第一电极布置和第二电极布置以及RF电压源被配置为使得由所接收的离子经历的电场的强度足以使离子经历迁移率变化。 | ||
| 搜索关键词： | 高压 离子 光学 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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