[发明专利]一种等离子体增强原子层沉积制备的电荷俘获型存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310115718.4 申请日: 2023-02-14
公开(公告)号: CN116093148A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 李玉香;褚光福;郑帅英;董立伟;李志军;辛倩;张嘉炜;宋爱民 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01L29/51 分类号: H01L29/51;H01L29/792;H10B43/30;H01L21/02
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 于兆生
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种等离子体增强原子层沉积制备的电荷俘获型存储器及其制备方法,属于电荷俘获型存储器技术领域。存储器,包括由下自上依次设置的衬底、栅电极、电荷阻挡层、电荷存储层、电荷隧穿层和铟镓锌氧沟道层,铟镓锌氧沟道层上侧间隔分别设置有源电极和漏电极,电荷阻挡层、电荷存储层、电荷隧穿层的材料选用Al2O3薄膜。本发明使用等离子体增强原子层沉积通过不同氧源和不同工艺条件得到了不同性质的Al2O3薄膜,并将其分别应用于电荷俘获型存储器的电荷阻挡层、电荷存储层、电荷隧穿层。制备的电荷俘获型存储器电荷存储能力强,有效解决了现有技术中存在的缺陷。
搜索关键词: 一种 等离子体 增强 原子 沉积 制备 电荷 俘获 存储器 及其 方法
【主权项】:
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