[发明专利]提高次表氮化层硬度的等离子体渗氮工艺在审
| 申请号： | 202310179261.3 | 申请日： | 2023-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN116219355A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 李炳坤;张庆辉;李瑞吉;崔新安 | 申请（专利权）人： | 山西平阳重工机械有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C8/38 | 分类号： | C23C8/38;C23C8/02;C21D1/18;C21D1/30;C21D9/00 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 张恒恒 |
| 地址： | 043002 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及渗氮工艺技术领域，具体涉及一种提高次表氮化层硬度的等离子体渗氮工艺，渗氮分为三段保温：一段保温在温度470℃下保持3h，同时氨气流量控制在0.6 L/min，炉内压力控制在240‑260pa，电压控制在680V；二段保温在温度500℃下保持5h，同时氨气流量控制在1.0 L/min，炉内压力控制在300‑320pa，电压控制在700V；三段保温在温度520℃下保持10h，同时氨气流量控制在1.9 L/min，炉内压力控制在380‑400pa，电压控制在730V。本发明提供的提高次表氮化层硬度的等离子体渗氮工艺，能够提高次表氮化层的硬度，在渗氮层磨削后获得表面硬度HV≥800的零件，提高了此类产品工作时的耐磨性及耐腐蚀性。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 氮化 硬度 等离子体 工艺 | ||
【主权项】：
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