[发明专利]一种外延片及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310594483.1 | 申请日： | 2023-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN116623288A | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 闫其昂;王国斌 | 申请（专利权）人： | 江苏第三代半导体研究院有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/18 | 分类号： | C30B25/18;H01L21/02;C30B29/40 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 刘二艳 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种外延片及其制备方法和应用，所述外延片包括依次层叠设置的衬底、氮化物成核层、复合层和外延层；所述氮化物成核层为3维岛状结构；所述复合层包括沿着远离衬底的方向交替层叠设置的至少两层插入层和至少两层粗化层。本发明通过在氮化物成核层和外延层之间设置至少两层插入层和至少两层粗化层，获得了高晶体质量的外延片，相比于常规外延片，本发明制备的外延片具有更低的应力和更低的位错密度，可满足半导体高端产品应用需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 外延 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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