[发明专利]一种利用压力差快速蒸发镀膜的方法及设备

摘要

本申请公开一种利用压力差快速蒸发镀膜的方法及设备，方法包括：步骤1、在真空腔室中设置孔隙件并将真空腔室分隔为压力腔和镀膜腔，且孔隙件上设有连通所述压力腔和镀膜腔的孔隙结构，压力腔室中设置有加热装置，在镀膜腔中设置被镀基板；步骤2、通过加热装置对待镀材料进行加热至产生待镀材料蒸气，压力腔内的压力逐渐升高至大于镀膜腔的气压，压力腔内的待镀材料蒸气会穿过所述孔隙件上的孔隙结构并流入所述镀膜腔内后沉积到所述被镀基板上。本申请利用PbI2在所述压力腔内产生的蒸气压，从而在压力腔和镀膜腔内产生压力差以使PbI2蒸气在压力差的驱动下形成流向被镀基板的蒸气流，沉积速度更快，有利于提高镀膜效率，适用于大面积镀膜。