[发明专利]一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层在审
| 申请号： | 202310798859.0 | 申请日： | 2023-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN116815271A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 王梓垚;李会;马国峰;张园园;刘海坤 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C25D11/26 | 分类号： | C25D11/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110041 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明公开了一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层。该涂层原位生长于纯钛或钛合金表面，制备方法为等离子体电解氧化法。涂层由金红石型和锐钛矿型二氧化钛构成，铕离子作为发光中心占据钛离子格位。涂层可由紫外光激发，主发射峰位于蓝光和红光波段，分别对应于TiO |
||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 电解 氧化 荧光 涂层 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳大学，未经沈阳大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310798859.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
