[发明专利]一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法在审
| 申请号： | 202310809084.2 | 申请日： | 2023-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN116921173A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 崔佳鑫;鄂殿玉;吴宜柳;张雨浩;杨艺峰;刘宇文龙 | 申请（专利权）人： | 江西理工大学 |
| 主分类号： | B05D1/18 | 分类号： | B05D1/18;B05C3/12;B05C13/02;B05C11/10;B65H18/10 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 黄攀 |
| 地址： | 341000 *** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，包括以下步骤：步骤一、工作人员将含有铜锑硫薄膜的料辊一端与收集辊进行连接；步骤二、在收卷结构收卷的过程中，涂抹结构对铜锑硫薄膜进行浸泡；步骤三、将完成浸泡的铜锑硫薄膜推出，方便工作人员对其进行收集。本发明能够便于工作人员对含有铜锑硫薄膜料辊进行安装，有效降低了工作人员的劳动强度，并且能够刮除多余的催化剂溶液，减少催化剂溶液的浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 铜锑硫 薄膜 光电 性能 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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