[发明专利]吡啶类两性离子化合物及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310888308.3 申请日: 2023-07-19
公开(公告)号: CN116924968A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 曾艺安;毛冲;王霹霹;冯慧涛;莫德欢;潘东优;谢金鑫;戴晓兵;冯攀;韩晖 申请(专利权)人: 合肥市赛纬电子材料有限公司;珠海市赛纬电子材料股份有限公司;淮南市赛纬电子材料有限公司
主分类号: C07D213/02 分类号: C07D213/02
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 杨小慧
地址: 231551 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种吡啶类两性离子化合物及其制备方法,其中制备方法的步骤包括:(1)将式1和第一溶剂于一定温度下混合均匀形成第一溶液;(2)将第二溶液滴加到第一溶液中,第二溶液由异氰酸酯类化合物和第一溶剂经混合均匀形成;(3)将步骤(2)反应结束后的产物进行处理得到吡啶类两性离子化合物;#imgabs0#R2、R3、R4、R5、R6各自独立地选自‑H、‑CN、‑NO2、‑F、‑Cl、‑Br、‑CF3、‑NH2、‑OH、‑COOH、‑C(CH3)3、‑Bn、‑SO2F、C1‑C10烃基、C1‑C10烷氧基或C2‑C10酰基。
搜索关键词: 吡啶 两性 离子 化合物 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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