[发明专利]一种逆导型IGBT器件结构及其制备方法在审
申请号: | 202310895112.7 | 申请日: | 2023-07-20 |
公开(公告)号: | CN116960169A | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
发明(设计)人: | 徐涛 | 申请(专利权)人: | 瑶芯微电子科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201207 上海市浦东新区中国(上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供一种逆导型IGBT器件结构及其制备方法,调节注入层位于逆导型IGBT器件结构的漂移区上,第一导电类型的体区位于调节注入层上;多个所述栅结构沿水平方向间隔设置于体区中并向上延伸至体区外,栅结构两侧均设置有发射区;每个栅结构上设置有介电阻隔层;发射极层位于介电阻隔层上并填充发射区之间的空隙。本发明通过在逆导型IGBT的体区下侧注入氢离子,引入缺陷复合中心,控制局部区域的少子寿命,降低快恢复二极管的反向恢复电荷,减小反向恢复损耗;同时通过注入氢离子产生寄生的浅热施主杂质,在IGBT内部形成载流子存储层,改善空穴的浓度分布,降低饱和压降,有利于驱动负载并降低功耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 逆导型 igbt 器件 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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