[发明专利]半导体器件及其制备方法、发光基板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202310921629.9 申请日: 2023-07-25
公开(公告)号: CN116705826A 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 刘伟星;卢美荣;彭锦涛;王新星;张春芳;滕万鹏;郭凯;徐智强;闫雨薇;王欢欢 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L27/07;H01L33/36;H01L33/00;H01L33/02;G09F9/33
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李莎
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请提供一种半导体器件及其制备方法、发光基板和显示装置,通过层叠设置在衬底上的第二电极、第一半导体层、发光层、第二半导体层和第三电极形成第一功能器件,通过设置在衬底上的第一电极,以及层叠设置在衬底上的第二电极、第一半导体层、发光层、第二半导体层和第三电极形成第二功能器件,从而减少驱动单元的电路面积,提高空间利用率。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制备 方法 发光 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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