[发明专利]一种光栅掩膜及光栅的制备方法在审
| 申请号： | 202311187802.3 | 申请日： | 2023-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN116931148A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 郭欣月;董文浩;赵宇暄 | 申请（专利权）人： | 北京至格科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人： | 尹明龙 |
| 地址： | 102308 北京市门头沟*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种光栅掩膜及光栅的制备方法，光栅掩膜的制备方法包括：根据曝光操作中曝光光场的能量分布确定基板不同区域的匀胶胶厚；基于确定的所述基板不同区域的匀胶胶厚，在基板上分次旋涂光刻胶，使得基板不同区域具有对应的所述匀胶胶厚，得到设置光刻胶掩膜的基板；将设置光刻胶掩膜的基板进行所述曝光操作，在基板上得到性质改变的光刻胶掩膜；对基板上性质改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在基板上得到光栅掩膜。通过本发明的光栅掩膜制备方法能够得到形貌一致的光栅掩膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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