一种低残余应力的铜薄膜制备方法

专利号：CN201210384082.5

公布日：2013-01-02

申请人：电子科技大学

控制磁控溅射设备镀膜的方法

专利号：CN202211706326.7

公布日：2023-04-11

申请人：晋能清洁能源科技股份公司;晋能光伏技术有限责任公司

半导体工艺设备和磁控溅射工艺

专利号：CN202210878906.8

公布日：2023-09-12

申请人：北京北方华创微电子装备有限公司

一种磁控溅射镀膜机的散热结构

专利号：CN202320075230.9

公布日：2023-05-05

申请人：夜视丽新材料股份有限公司

磁控溅射装置及磁控溅射方法

专利号：CN201510608551.0

公布日：2015-12-02

申请人：京东方科技集团股份有限公司

条形磁铁、磁靶及磁控溅射设备

专利号：CN201310739712.0

公布日：2014-03-26

申请人：京东方科技集团股份有限公司

一种磁控溅射机

专利号：CN202222671300.5

公布日：2023-04-28

申请人：上海哈呐技术装备有限公司

磁控溅射环、磁控溅射环装置及磁控溅射反应器

专利号：CN201410171588.7

公布日：2015-11-25

申请人：宁波江丰电子材料股份有限公司

磁控溅射环装置及磁控溅射反应器

专利号：CN201220750453.2

公布日：2013-07-10

申请人：宁波江丰电子材料有限公司

磁控溅射环装置及磁控溅射反应器

专利号：CN201220750585.5

公布日：2013-07-10

申请人：宁波江丰电子材料有限公司

一种磁控溅射靶屏蔽装置

专利号：CN201520298266.9

公布日：2015-09-30

申请人：昆明理工大学

基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法

专利号：CN201510962160.9

公布日：2016-05-25

申请人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积装置及方法

专利号：CN200810120013.7

公布日：2010-01-27

申请人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所

一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法

专利号：CN201510705271.1

公布日：2019-03-01

申请人：中国科学院兰州化学物理研究所

一种可监控薄膜晶粒生长的磁控溅射装置

专利号：CN202320023923.3

公布日：2023-06-09

申请人：深圳市矩阵多元科技有限公司