[发明专利]粉体处理装置和粉体处理方法无效
| 申请号： | 201280044311.7 | 申请日： | 2012-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN103796746A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 田中则之;平岩次郎;向井崇洋 | 申请（专利权）人： | 东洋炭素株式会社 |
| 主分类号： | B01J8/24 | 分类号： | B01J8/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;李婷 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
1. 一种粉体处理装置，是由处理用气体进行作为被处理物的粉体的处理的粉体处理装置，其特征在于，
具备反应容器，该反应容器具有容纳粉体的处理用空间，
在所述反应容器的第1位置，设有用于将处理用气体导入所述处理用空间的第1气体导入部，在所述反应容器的与所述第1位置不同的第2位置，设有用于将稀释气体导入所述处理用空间的第2气体导入部。
2. 根据权利要求1所述的粉体处理装置，其特征在于，所述第2气体导入部设在所述处理用空间的下部，使得稀释气体向着上方导入所述处理用空间。
3. 根据权利要求1所述的粉体处理装置，其特征在于，还具备通气部件，该通气部件设在所述第2气体导入部，构成为稀释气体通过且粉体不通过。
4. 根据权利要求1所述的粉体处理装置，其特征在于，还具备将振动施加至所述反应容器的振动产生装置。
5. 根据权利要求1所述的粉体处理装置，其特征在于，所述处理用气体含有氟气。
6. 一种粉体处理方法，是由处理用气体进行作为被处理物的粉体的处理的粉体处理方法，其特征在于，具备：
将粉体容纳于反应容器的处理用空间的工序；和
将处理用气体从设在所述反应容器的第1位置的第1气体导入部导入所述处理用空间并将稀释气体从设在所述反应容器的与所述第1位置不同的第2位置的第2气体导入部导入所述处理用空间的工序。
7. 根据权利要求6所述的粉体处理方法，其特征在于，所述处理用气体含有氟气。
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