[发明专利]图像的美肤处理方法和装置有效
申请号: | 201610073124.1 | 申请日: | 2016-02-02 |
公开(公告)号: | CN105741231B | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 陈明旭;张富强;陈昭;张立明 | 申请(专利权)人: | 深圳中博网络技术有限公司 |
主分类号: | G06T3/00 | 分类号: | G06T3/00;G06T5/00 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田区华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 处理 方法 装置 | ||
1.一种图像的美肤处理方法,其特征在于,所述方法包括:
对原始图像的肤色区域采用痘斑检测算法,计算得到痘斑区域;
采用痘斑修复算法,对所述痘斑区域进行痘斑修复,得到痘斑修复图像;
对所述痘斑修复图像采用暗区检测算法,计算得到暗区蒙板覆盖区域;
采用暗区修复算法,对所述暗区蒙板覆盖区域进行修复,得到结果图像;
所述对原始图像的肤色区域采用痘斑检测算法,计算得到痘斑区域的步骤包括:
对所述原始图像的所述肤色区域进行高斯函数处理,得到候选痘斑像素;
搜索所述候选痘斑像素的相邻区域的像素,将所述候选痘斑像素的相邻区域的像素与所述候选痘斑像素进行合并,生成候选痘斑区域;
对所述候选痘斑区域进行筛选,得到所述痘斑区域;
所述对所述原始图像的所述肤色区域进行高斯函数处理,得到候选痘斑像素的步骤包括:
选取所述原始图像的任一像素为待处理像素;
根据该待处理像素的近邻像素与远邻像素的加权平均亮度检测痘斑;
如果近邻像素的加权平均亮度小于远邻像素的加权平均亮度,并且差值超过一定阈值,则认为该待处理像素为所述候选痘斑像素。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用痘斑修复算法,对所述痘斑区域进行痘斑修复,得到痘斑修复图像的步骤包括:
在所述痘斑区域的边界上任取一点为中心,以预设长度为半径,得到待填充区域;
在所述痘斑区域的外部获取与所述待填充区域大小一致的替换区域;
将所述替换区域填充至所述待填充区域;
循环执行所述痘斑修复操作,直到所述痘斑区域填充完毕,得到所述痘斑修复图像。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对所述痘斑修复图像采用暗区检测算法,计算得到暗区蒙板覆盖区域的步骤包括:
在颜色通道中对所述痘斑修复图像进行高反差保留处理;
对进行高反差保留处理后的所述痘斑修复图像进行多次强光叠加;
提取所述痘斑修复图像中叠加结果小于阈值的区域,得到所述暗区蒙板覆盖区域。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述采用暗区修复算法,对所述暗区蒙板覆盖区域进行修复,得到结果图像的步骤包括:
对所述暗区蒙板覆盖区域采用预设函数,计算得到对应的修复曲线;
根据所述修复曲线,对所述暗区蒙板覆盖区域中的任一像素进行像素处理,得到所述结果图像。
5.一种图像的美肤处理装置,其特征在于,所述装置包括:
痘斑检测模块,用于对原始图像的肤色区域采用痘斑检测算法,计算得到痘斑区域;
痘斑修复模块,用于采用痘斑修复算法,对所述痘斑区域进行痘斑修复,得到痘斑修复图像;
暗区检测模块,用于对所述痘斑修复图像采用暗区检测算法,计算得到暗区蒙板覆盖区域;
暗区修复模块,用于采用暗区修复算法,对所述暗区蒙板覆盖区域进行修复,得到结果图像;
所述痘斑检测模块,还用于对所述原始图像的所述肤色区域进行高斯函数处理,得到候选痘斑像素;搜索所述候选痘斑像素的相邻区域的像素,将所述候选痘斑像素的相邻区域的像素与所述候选痘斑像素进行合并,生成候选痘斑区域;对所述候选痘斑区域进行筛选,得到所述痘斑区域;
所述痘斑检测模块,还用于选取所述原始图像的任一像素为待处理像素;根据该待处理像素的近邻像素与远邻像素的加权平均亮度检测痘斑,如果近邻像素的加权平均亮度小于远邻像素的加权平均亮度,并且差值超过一定阈值,则认为该待处理像素为所述候选痘斑像素。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,
所述痘斑修复模块,还用于在所述痘斑区域的边界上任取一点为中心,以预设长度为半径,得到待填充区域;在所述痘斑区域的外部获取与所述待填充区域大小一致的替换区域;将所述替换区域填充至所述待填充区域;循环执行所述痘斑修复操作,直到所述痘斑区域填充完毕,得到所述痘斑修复图像。
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