[发明专利]显影剂调节部件和显影装置有效

专利信息
申请号: 200680034422.4 申请日: 2006-03-10
公开(公告)号: CN101268422A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 长谷川秀明;冈野启司 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种显影剂调节部件,与携带单组分显影剂的显影剂携带部件相邻接,用于调节该显影剂携带部件上的显影剂的层厚度,所述显影剂调节部件具有由支撑部件所支撑的受支撑部分以及与该显影剂携带部件相邻接的邻接部分,该邻接部分的表面粗糙度参数满足以下表达式(1)到(5):0.30≤Sm≤0.170(1),Rpk≤2.0(2),Rp≤5.0(3),0.10≤Rvk×(100-Mr2)/100≤1.30(4),Rpk<Rvk(5),其中,Sm是JIS-B0601-1994所规定的轮廓不平度的平均间距[mm],Rp是ISO4287-1997所规定的最大轮廓峰高[微米],Rpk是DIN4776所规定的初始磨损高度[微米],Rvk是DIN4776所规定的含油深度[μm],并且Mr2是DIN4776所规定的轮廓支承长度率2[%]。
搜索关键词: 显影剂 调节 部件 显影 装置
【主权项】:
1.一种显影剂调节部件,其与携带单组分显影剂的显影剂携带部件相邻接,用以调节该显影剂携带部件上的显影剂的层厚度,所述显影剂调节部件包括:由支撑部件所支撑的受支撑部分;与该显影剂携带部件相邻接的邻接部分,所述邻接部分的表面粗糙度参数满足以下表达式(1)到(5):0.030≤Sm≤0.170......(1)Rpk≤2.0......(2)Rp≤5.0......(3)0.10≤Rvk×(100-Mr2)/100≤1.30......(4)Rpk<Rvk......(5)其中Sm是JIS-B0601-1994所规定的轮廓不平度的平均间距[mm],Rp是ISO4287-1997所规定的最大轮廓峰高[μm],Rpk是DIN4776所规定的初始磨损高度[μm],Rvk是DIN4776所规定的含油深度[μm],并且Mr2是DIN4776所规定的轮廓支承长度率2[%]。
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