[发明专利]透明基板监测装置和透明基板监测方法有效
申请号: | 201380015267.1 | 申请日: | 2013-03-18 |
公开(公告)号: | CN104204720B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 金在完;金钟安;陈宗汉;姜宙植;严泰凤 | 申请(专利权)人: | 韩国标准科学研究院 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B9/02 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人: | 曹正建,陈桂香 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种透明基板监测装置和透明基板监测方法。所述透明基板监测装置包括用于发光的发光单元;双狭缝,所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以使光能够从中穿过的第一狭缝和第二狭缝,所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交;光学检测单元,所述光学检测单元测量形成在屏幕平面上的干涉图样的强度轮廓或位置;和信号处理单元,所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算光学相位差或光程差。 | ||
搜索关键词: | 透明 监测 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种透明基板监测装置,其包括:用于发光的发光单元;双狭缝,所述双狭缝布置于第一方向和第二方向所限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝,所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交;光学检测单元,所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置,所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝,所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝;和信号处理单元,所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算由所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置造成的光学相位差或光程差,所述发光单元包括:第一光源,所述第一光源发出第一波长的光;第二光源,所述第二光源发出第二波长的光,所述第二波长不同于所述第一波长;定向耦合器,所述定向耦合器将所述第一光源的光路与所述第二光源的光路耦合;和准直透镜,所述准直透镜将所述定向耦合器的输出光提供至所述双狭缝。
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